1. 등록요건
  2. 업무처리절차
  3. 특허/실용실안 상담

한·미 특허심사 하이웨이 시범 시행 합의










-미국 특허출원 더욱 편리해지고 심사결과도 조기 파악 가능-

 


  한-미 특허심사하이웨이의 시행으로 앞으로 우리 국민이 미국에 특허출원하기가 더욱 편리해지고, 심사결과도 더 신속히 받을 수 있게 될 전망이다.


 한, 미 양국 특허청은 한ㆍ미 양국에 공통으로 제출된 특허출원으로서 어느 한쪽 국가에서 긍정적인 심사결과를 받으면, 다른 국가에서는 해당 특허출원을 다른 것보다 우선하여 심사하는 내용을 골자로 하는 『한-미 특허심사하이웨이』를 2008년 1월 1일부터 시범 시행하기로 합의하였다.




 이번 한ㆍ미 특허심사하이웨이는 한, 일 특허심사하이웨이에 이어 우리청과 선진 특허청간에 두 번째 시행하는 것으로서, 이를 통하여 미국 특허청이 우리 특허청의 심사품질을 높이 평가하고 있다는 것을 알 수 있으며 국제 특허행정 분야에서 높아진 우리 특허청의 위상을 다시 한번 확인 할 수 있게 되었다. 


                                                                                      (단위 : 건)


























 연 도


2001


 2002


2003 


2004 


2005 


 출 원


 6,792


7,757 


9,614


 13,388 


 16,643


 등 록


 3,783


3,755 


4,198


 4,590 


 4,811

                   <한국에서 미국으로의 특허출원 및 등록 현황>



  미국의 현행 평균 1차 심사처리기간은 22.6개월(2006년 기준)이며, 특허심사하이웨이를 이용하여 우리 출원인이 한국에서 미국으로 조기심사를 신청하는 경우 1차 심사처리기간이 최장 9개월 정도 소요되므로, 13.6개월 더 빨리 심사를 받을 수 있게 된다. 이로 인해 우리 출원인의 특허기술이 조기에 사업화가 가능하게 되는 등 사회, 경제적 비용 절감 효과가 매우 클 것으로 예상된다.




  전상우 특허청장은 지난 5월 5개국(한ㆍ미ㆍ일ㆍ중ㆍEU) 특허청장회담에 참석하여 한ㆍ일, 미ㆍ일 양국간에 실시되고 있는 특허심사하이웨이를 양자간 또는 다자간으로 확대할 것을 제안한 바 있다. 이에 대해 미국특허청은 전폭적인 지지를 표명하였고, 지난 6월 한국특허청에 양국간 특허심사하이웨이를 추진할 것을 공식 요청하여 금번 합의에 이르게 된 것이다. 

                                                                                                             (단위 : 건)


























 연 도


2002 


2003


2004 


 2005


 2006 


 출 원


 7,212


7,575 


9,366 


10,507 


9,402 


 등 록


 3,983


3,248 


2,978 


4,123 


6,784 


                          <미국에서 한국으로의 특허출원 및 등록 현황>



  양국 특허청장은 오는 9월 제네바에서 양청장간 회담을 개최하고 『한-
특허심사하이웨이』합의서에 공식적으로 서명할 예정이며, 양국간 특허심사하이웨이는 심사적체물량의 해소 및 심사처리기간의 단축에 크게 기여할 것으로 기대된다.


※ 특허심사하이웨이의 개념


   A, B국가에 공통으로 특허가 신청된 경우에, A국에서 특허가능하다는 결정이 내려지면, B국은 A국의 심사결과를 활용하여 해당 특허출원을 다른 출원에 비하여 신속하게 심사하는 제도 
 


<문의> 특허청 국제협력팀 배여울 사무관 042-481-5066


          특허청 특허심사정책팀 변상현 사무관 042-481-5390


<정리> 특허청 정책홍보팀 최원서